• 新晶體管能夠將處理器的功耗降低至當前處理器產品的10％
• 新晶體管基于的是硅基，使用了一種名為III-V的化合物半導體
• 工作核心電壓將只有當前處理器的50％，功耗只有當前晶體管的10％

應用范圍：

• 處理器
• 顯卡以及其他高集成度設備

據報道，Intel公司新推出一種名為“P-channel”和“N-channel”的晶體管能夠將處理器的功耗降低至當前處理器產品的10％。Intel公司于日前公布了新材料“P-channel”晶體管的更多細節，新晶體管基于的是硅基，使用了一種名為III-V的化合物半導體。大約在一年之前Intel公司就對外描述過基于III-V材料的“P-channel”晶體管，當時同樣基于的是硅基。

根據Intel公司的介紹當同時使用N-channel和P-channel兩種材料之后就可以制造CMOS電路塊。并且擁有制造未來處理器產品的潛力。值得一提的就是基于新材料的處理器功耗將非常低，工作核心電壓將只有當前處理器的50％，功耗只有當前晶體管的10％。

如果這項**能夠在處理器產品上得到應用，那么這將會為我們帶來體積更小、功耗更低、性能更加強大的處理器。很顯然的是新材料將來還可以應用在顯卡以及其他高集成度設備上。

目前，Intel公司正在著力研究新材料的實用化。